Безконтактний
метод
визначення
рекомбінаційних
параметрів в
напівпровідниках
Запропонований
безконтактний
метод
використовується
для
визначення
рекомбінаційних
параметрів
носіїв
заряду,
таких,
як
швидкість
поверхневої
рекомбінації,
час
життя
та
дифузійна
довжина
носіїв
заряду в
напівпровідниках
(н/п)
з
виводом
результатів
тестування
на
зовнішні
пристрої
у
вигляді
протоколів.
В основу
покладено
вимірювання
нерівноважного
теплового
випромінювання
вільних
носіїв
заряду в
н/п
(hn2<Eg),
що виникає
за рахунок
внутрішньозонних
переходів
вільних
електронів і
дірок, які
генеровані
за рахунок
опромінювання
н/п зразка
монохроматичним
світлом з
області
власного
поглинання
(
hn1>Eg).
Метод
використовується
в
мікроелектроніці
при
виробництві
і
оптимізації
характеристик
н/п
приладів.
Даний метод
(заявка
на винахід
№200512129
від 16.12.05)
дає
можливість
здійснення
безконтактного
неруйнівного
експрес-контролю
широкого
спектру
напівпровідникових
зразків.
Ефективність
методу не
залежить від
характеру
домінуючого
механізму
рекомбінації
(випромінювальна,
безвипромінювальна),
що дозволяє
досліджувати
рекомбінаційні
параметри як
у
прямозонних,
так і в
непрямозонних
н/п.
Ефективність
методу
зростає з
температурою.
Це значно
спрощує
реалізацію
методу і
забезпечує
можливість
безконтактного
неруйнівного
контролю
рекомбінаційних
параметрів
широкого
переліку н/п
в широкому
температурному
діапазоні
(300-800 К).
На базі
цього методу
була
розроблена
технологія
неруйнівного
поточного
контролю
параметрів
матеріалу
Si
та приладів
на основних
стадіях
виробництва
сонячних
елементів
(ВАТ
“Квазар”, м.
Київ-136,
Північно-Сирецька,
3). Як
приклад,
результати
тестування
швидкості
поверхневої
рекомбінації
в пластинах
кремнію, та
схема
випробувань
наведені на
рисунку
(див./скачати>>).
УВАГА:
з метою
підтримки
вітчизняного
виробника
перше
тестування
виробів,
виготовлених
за сучасними
технологіями
в Україні,
безкоштовно.